[发明专利]ESD保护装置、包括ESD保护装置的半导体装置和其制造方法在审

专利信息
申请号: 201910274173.5 申请日: 2019-04-04
公开(公告)号: CN110364523A 公开(公告)日: 2019-10-22
发明(设计)人: 詹柔莹;简-菲利普·莱恩;叶夫根尼·尼科洛夫·斯特凡诺夫;阿兰·塞勒;帕特里斯·贝塞 申请(专利权)人: 恩智浦美国有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 纪雯
地址: 美国德*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种用于保护集成电路(IC)免于ESD事件的影响的ESD保护装置包括:第一端,其耦合到所述IC的输入/输出焊盘;第二端,其耦合到参考电压或接地电压;可控硅整流器(SCR)装置,其具有连接到所述第一端的阳极和连接到所述参考电压或所述接地电压的阴极;以及pnp晶体管,其与所述SCR装置并联耦合。所述pnp晶体管具有耦合到所述第一端的发射极、耦合到所述第二端的集电极和耦合到所述SCR的栅极的基极。所述pnp晶体管包括形成于衬底的第一侧处的接触区域,所述第一接触区域被形成于所述衬底的所述第一侧处的STI层包围。在所述第一接触区域和所述STI层的相交点处形成有绝缘结构。
搜索关键词: 耦合到 接触区域 参考电压 接地电压 衬底 输入/输出焊盘 可控硅整流器 阴极 半导体装置 阳极 并联耦合 绝缘结构 第一端 发射极 集电极 相交点 集成电路 包围 制造
【主权项】:
1.一种用于保护集成电路(94)免于在集成电路处接收到的静电放电ESD事件的影响的ESD保护装置(20,132),其特征在于,所述ESD保护装置包括:第一端(92),其被配置成耦合到所述集成电路的输入/输出I/O焊盘(80);第二端(96),其被配置成耦合到参考电压或接地电压;可控硅整流器SCR(88),其具有连接到所述第一端的阳极(98)和连接到所述参考电压或所述接地电压的阴极(100);以及pnp晶体管(90),其与所述SCR并联耦合,所述pnp晶体管具有耦合到所述第一端的发射极(102)、耦合到所述第二端的集电极(104)和耦合到所述SCR的栅极(108)的基极(106),其中所述pnp晶体管包括形成于衬底(24)的第一侧(26)处的第一接触区域(66),所述第一接触区域至少部分地被形成于所述衬底的所述第一侧处的浅槽隔离STI层(84)包围,并且其中在所述第一接触区域和所述STI层的相交点处形成有绝缘结构(116)。
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