[发明专利]用于半导体工艺的检查设备和半导体工艺装置在审
| 申请号： | 201910275042.9 | 申请日： | 2019-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN110391153A | 公开（公告）日： | 2019-10-29 |
| 发明（设计）人： | 程明灏;柳永洙;金成采;金锺洙;徐元国;崔昌勋;河政秀 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/677 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 刘灿强;韩芳 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了一种用于半导体工艺的检查设备和半导体工艺装置，该检查设备包括：传送器，被构造为在多个腔室之间传送工艺目标；至少一个线照相机，安装在传送器上方，所述至少一个线照相机被构造为通过捕获由传送器传送的工艺目标的图像来生成原始图像；以及控制器，被构造为接收原始图像并且被构造为通过校正原始图像的由于传送器的传送速度的变化导致的失真来执行工艺目标的检查。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体工艺 传送器 工艺目标 检查设备 原始图像 传送 照相机 装置提供 控制器 腔室 捕获 校正 失真 图像 检查 | ||
【主权项】：
1.一种用于半导体工艺的检查设备，所述检查设备包括：传送器，被构造为在多个腔室之间传送工艺目标；至少一个线照相机，安装在所述传送器上方，所述至少一个线照相机被构造为通过捕获由所述传送器传送的所述工艺目标的图像来生成原始图像；以及控制器，被构造为所述接收原始图像并且被构造为通过校正所述原始图像的由于所述传送器的传送速度的变化导致的失真来执行所述工艺目标的检查。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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