[发明专利]蚀刻液组合物有效
| 申请号： | 201910275642.5 | 申请日： | 2019-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN110042393B | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 孟小欢;苗新民 | 申请（专利权）人： | 绍兴明煌科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/26 |
| 代理公司： | 绍兴市寅越专利代理事务所(普通合伙) 33285 | 代理人： | 陈彩霞 |
| 地址： | 312030 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种蚀刻液组合物，属于蚀刻技术领域，包括，以蚀刻液组合物的总重量计，6‑16wt％过硫酸盐；2‑6wt％硝酸；0.3‑3wt％磺酸化合物；0.3‑0.5wt％硝酸羟胺；以及，余量的水。本发明蚀刻液组合物能够消除现有蚀刻液中发生的侧面蚀刻现象、经时变化现象、蚀刻时的产生残渣现象以及蚀刻废液难以再利用和回收等缺点，蚀刻的均匀性和稳定性较佳，易于形成精细图案的线路，用于各种显示装置用阵列基板、存储半导体显示板等的制造。此外，上述蚀刻液组合物的稳定性高、铜离子的回收容易，易于对蚀刻废液进行再利用和回收。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
1.蚀刻液组合物，其特征在于：包括，以所述蚀刻液组合物的总重量计，6‑16wt%过硫酸盐；2‑6wt%硝酸；0.3‑3wt%磺酸化合物；0.3‑0.5wt%硝酸羟胺；以及，余量的水。
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