[发明专利]化学气相沉积装置维护保养方法有效
| 申请号： | 201910278360.0 | 申请日： | 2019-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN110112049B | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 覃多喜 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;G01N15/00 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本揭示提供化学气相沉积装置维护保养方法，其特征在于，包括步骤S10：通过气体吹扫，筛选出符合测试要求的扩散器；步骤S20：设定检测规格的预设值，通过微粒测量仪对所述扩散器进行微粒检测；步骤S30：将所述扩散器装配到化学气相沉积装置，进行试验生产；以及步骤S40：所述化学气相沉积装置进行正式生产，并持续对所述化学气相沉积装置进行微粒检测。通过检测厂商维护保养后扩散器的维护保养品质，增加化学气相沉积装置维护保养的成功率。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 沉积 装置 维护 保养 方法 | ||
【主权项】：
1.一种化学气相沉积装置维护保养方法，其特征在于，包括：步骤S10：通过气体吹扫，筛选符合测试要求的扩散器；步骤S20：设定检测规格的预设值，通过微粒测量仪对所述扩散器进行微粒检测；步骤S30：将所述扩散器装配到化学气相沉积装置，进行试验生产；以及步骤S40：所述化学气相沉积装置进行正式生产，并持续对所述化学气相沉积装置进行微粒检测。
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