[发明专利]具有对光束发散度的混合控制的X射线分析装置及方法在审
| 申请号： | 201910280993.5 | 申请日： | 2019-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN110376231A | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 米伦·加特什基;D·贝克尔斯 | 申请（专利权）人： | 马尔文帕纳科公司 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223;G01N23/2206;G01N23/207;G01N23/20008 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 胡秋玲;郑霞 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本申请涉及具有对光束发散度的混合控制的X射线分析装置及方法。该装置包括位于X射线源(4)和样品(6)之间的可调狭缝(210)；和可选地另一狭缝(220，220a)。控制器(17)被配置成在第一宽度、更大的第二宽度和甚至更大的第三宽度之间控制可调狭缝的宽度。在第一宽度和第二宽度下：可调狭缝(210)限制入射光束的发散度，从而限制样品的被照射区域；并且另一狭缝(220)不限制入射光束的发散度。在第三宽度下：可调狭缝(210)不限制入射光束的发散度，并且另一狭缝(220)限制入射光束的发散度，从而限制样品的被照射区域。或者，在第三宽度下，可调狭缝(210)继续限制被照射区域。 | ||
| 搜索关键词： | 可调狭缝 入射光束 发散度 被照射区域 狭缝 光束发散度 混合控制 控制器 可选 配置 申请 | ||
【主权项】：
1.一种X射线分析装置，包括：X射线源(4)，所述X射线源被配置成生成X射线；样品台(8)，所述样品台被配置成支撑样品(6)，所述X射线源和所述样品台被布置成使得由所述X射线源生成的X射线限定照射所述样品的入射光束；可调狭缝(210)，所述可调狭缝在所述X射线源和所述样品之间；另一狭缝(220)，所述另一狭缝在所述X射线源和所述可调狭缝之间，或者在所述可调狭缝和所述样品之间；以及控制器(17)，所述控制器被配置成控制所述可调狭缝的宽度，其中，所述控制器被配置成在第一宽度、第二宽度和第三宽度之间改变所述可调狭缝的宽度，所述第三宽度大于所述第二宽度，所述第二宽度大于所述第一宽度，其中在所述第一宽度下：所述可调狭缝将所述入射光束的发散度限制在第一发散角，从而限制所述样品的被照射区域，在所述第二宽度下：所述可调狭缝将所述入射光束的发散度限制在第二发散角，从而限制所述样品的被照射区域，以及在所述第三宽度下：所述可调狭缝不限制所述入射光束的发散度；以及所述另一狭缝将所述入射光束的发散度限制在第三发散角，从而限制所述样品的被照射区域，其中，所述第三发散角大于所述第二发散角，并且所述第二发散角大于所述第一发散角。
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