[发明专利]钕铁硼磁体组件的粘接方法

摘要

本发明公开了一种钕铁硼磁体组件的粘接方法，包括如下步骤：(1)提供N片钕铁硼磁体，并在第1～(N‑1)片钕铁硼磁体的表面形成绝缘层；其中，N为大于等于3的自然数；(2)在所述绝缘层上涂布粘接剂得到待粘接磁体；(3)在所述待粘接磁体中，将第1片钕铁硼磁体涂布有粘接剂的表面与第2片钕铁硼磁体未涂布粘接剂的表面叠加，以此类推，依次叠加，直至第(N‑1)片钕铁硼磁体；再将第N片钕铁硼磁体叠加在第(N‑1)片钕铁硼磁体涂布有粘接剂的表面，从而得到叠加磁体组；将所述叠加磁体组加压，并固化形成粘接层。本发明的方法可以改善绝缘粘接层的一致性。

主权项

1.一种钕铁硼磁体组件的粘接方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)提供N片钕铁硼磁体，并在第1～(N‑1)片钕铁硼磁体的表面形成绝缘层；其中，N为大于等于3的自然数；(2)在所述绝缘层上涂布粘接剂得到待粘接磁体；(3)在所述待粘接磁体中，将第1片钕铁硼磁体涂布有粘接剂的表面与第2片钕铁硼磁体未涂布粘接剂的表面叠加，以此类推，依次叠加，直至第(N‑1)片钕铁硼磁体；再将第N片钕铁硼磁体叠加在第(N‑1)片钕铁硼磁体涂布有粘接剂的表面，从而得到叠加磁体组；将所述叠加磁体组加压，并固化形成粘接层；其中，各个绝缘层厚度δ₁为1～50μm，各个粘接层厚度δ₂为50～85μm；相邻两片钕铁硼磁体之间的绝缘层和粘接层的总厚度δ＝δ₁+δ₂，δ小于100μm；总厚度δ的极差为δ_max‑δ_min，且小于10μm。