[发明专利]半导体存储器件在审
申请号: | 201910283785.0 | 申请日: | 2019-04-10 |
公开(公告)号: | CN110391244A | 公开(公告)日: | 2019-10-29 |
发明(设计)人: | 郑煐陈;曹诚汉 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/11556 | 分类号: | H01L27/11556;H01L27/11582 |
代理公司: | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人: | 李娜 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供了一种半导体存储器件,其包括:基板,包括单元阵列区域和焊盘区域;堆叠结构,设置在基板的单元阵列区域和焊盘区域上,并包括栅电极;器件隔离层,与堆叠结构垂直地交叠并设置在基板的焊盘区域中;虚设垂直沟道部分,在基板的焊盘区域上穿进堆叠结构并设置在器件隔离层中;以及虚设半导体柱,设置在虚设垂直沟道部分和基板的与器件隔离层的一个侧壁接触的一部分之间。 | ||
搜索关键词: | 基板 焊盘区域 器件隔离层 堆叠结构 半导体存储器件 单元阵列区域 虚设 垂直沟道 半导体柱 侧壁接触 垂直地 栅电极 交叠 | ||
【主权项】:
1.一种半导体存储器件,所述半导体存储器件包括:基板,所述基板包括单元阵列区域和焊盘区域;堆叠结构,所述堆叠结构设置在所述基板的所述单元阵列区域和所述焊盘区域上,并包括栅电极;器件隔离层,所述器件隔离层与所述堆叠结构垂直地交叠并设置在所述基板的所述焊盘区域中;第一虚设垂直沟道部分,所述第一虚设垂直沟道部分在所述基板的所述焊盘区域上穿进所述堆叠结构并设置在所述器件隔离层中;以及第一虚设半导体柱,所述第一虚设半导体柱设置在所述第一虚设垂直沟道部分和所述基板的与所述器件隔离层的一个侧壁接触的一部分之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910283785.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种存储器的制备方法和存储器
- 下一篇:竖直型存储器件
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的