[发明专利]原位还原制备电镀种子层的异质结太阳电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910287335.9 申请日: 2019-04-11
公开(公告)号: CN110137278A 公开(公告)日: 2019-08-16
发明(设计)人: 俞健;李君君;陈涛;黄跃龙 申请(专利权)人: 西南石油大学
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/072;H01L31/18
代理公司: 北京中索知识产权代理有限公司 11640 代理人: 房立普
地址: 610500 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开原位还原制备电镀种子层的异质结太阳电池及其制备方法,包括N型单晶硅衬底层;本征非晶硅薄膜;P型非晶硅薄膜;N型的非晶硅薄膜;透明导电薄膜;电镀金属电极;所述电镀金属电极包括金属种子层,所述金属种子层通过电化学法原位还原形成在所述透明导电薄膜上;金属传导层,所述金属传导层电镀在所述金属种子层的表面上。本发明相比与传统电镀电极的制备方法,能显著降低工艺复杂性,通过电化学的方法形成种子层,改善界面附着特性,降低界面接触电阻;可以改善异质结太阳电池的性能,实现高效、低成本的目的。
搜索关键词: 制备 异质结太阳电池 金属种子层 原位还原 透明导电薄膜 电镀种子层 金属传导层 电镀金属 电极 本征非晶硅薄膜 界面接触电阻 非晶硅薄膜 工艺复杂性 电化学 电镀电极 电化学法 电镀 衬底层 低成本 种子层 附着
【主权项】:
1.原位还原制备电镀种子层的异质结太阳电池,其特征在于,包括N型单晶硅衬底层;本征非晶硅薄膜,所述本征非晶硅薄膜形成在所述N型单晶硅衬底层的上下两侧表面上;P型非晶硅薄膜,所述p型非晶硅薄膜形成在一侧所述本征非晶硅薄膜的表面上;N型的非晶硅薄膜,所述N型的非晶硅薄膜形成在另一侧所述本征非晶硅薄膜的表面上;透明导电薄膜,所述透明导电薄膜形成在所述P型非晶硅薄膜和所述N型的非晶硅薄膜的表面上;金属电极,所述金属电极形成在所述透明导电薄膜的表面上;所述金属电极包括金属种子层,所述金属种子层通过电化学法原位还原形成在所述透明导电薄膜上;金属传导层,所述金属传导层电镀在所述金属种子层的表面上。
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