[发明专利]铜离子处理系统及其废水处理系统在审

专利信息
申请号: 201910288975.1 申请日: 2019-04-11
公开(公告)号: CN110040872A 公开(公告)日: 2019-07-23
发明(设计)人: 李金城;吴豪旭 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: C02F9/04 分类号: C02F9/04;C02F101/20;C02F103/16
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种铜离子处理系统及其废水处理系统,铜离子处理系统包括:蚀刻机台,用以利用铜蚀刻液进行蚀刻制程;中和单元,与蚀刻机台连通,用以收集并中和来自蚀刻机台的铜蚀刻液;铜离子去除单元,与中和单元连通,用于收集来自中和单元之经中和的铜蚀刻液,将铜离子自铜蚀刻液中分离;以及铜蚀刻液的补充单元,与铜离子去除单元以及蚀刻机台连通,用以接收来自铜离子去除单元的铜蚀刻液,并调整铜蚀刻液的比例后,传送回蚀刻机台以进行蚀刻制程;废水处理系统,包括:废水回收单元;废水中和单元;以及废水铜离子去除单元。
搜索关键词: 铜蚀刻液 铜离子去除 蚀刻机台 铜离子 废水处理系统 处理系统 中和单元 连通 蚀刻制程 废水回收单元 机台 补充单元 废水中和 并中和 回蚀刻 传送 废水 中和
【主权项】:
1.一种铜离子处理系统,包括:一蚀刻机台,用以利用一铜蚀刻液进行一蚀刻制程;一中和单元,与所述蚀刻机台连通,用以收集并中和来自所述蚀刻机台的所述铜蚀刻液;一铜离子去除单元,与所述中和单元连通,用于收集来自所述中和单元之经中和的铜蚀刻液,其中,所述铜离子去除单元包括一轮烷类化合物,所述轮烷类化合物与经中和的铜蚀刻液中的铜离子结合后,形成一产物,使该产物自铜蚀刻液中分离;以及一铜蚀刻液的补充单元,与所述铜离子去除单元以及所述蚀刻机台连通,用以接收来自所述铜离子去除单元的铜蚀刻液,并调整所述铜蚀刻液的比例后,传送回所述蚀刻机台以进行所述蚀刻制程。
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