[发明专利]从基底移除陶瓷涂层的方法在审
| 申请号： | 201910289323.X | 申请日： | 2019-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN110359005A | 公开（公告）日： | 2019-10-22 |
| 发明（设计）人： | L.B.库尔 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | C23C8/04 | 分类号： | C23C8/04;C23C8/80;C23C8/24;C23G1/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 杨忠;金飞 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及从基底移除陶瓷涂层的方法。提供了一种用于从基底移除陶瓷涂层的方法。该方法包括使陶瓷涂层与包括氟化物源和硝酸的组合物接触。提供了一种形成在饱和磁化强度方面有变化的构件的方法。该方法包括使用陶瓷涂层来掩蔽金属构件的表面的选定部分，以形成带掩模的金属构件；通过使带掩模的金属构件暴露于富氮气氛而使氮选择性地扩散到金属构件中；以及通过使陶瓷涂层与包括氟化物源和硝酸的组合物接触而从金属构件的表面移除陶瓷涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 陶瓷涂层 金属构件 基底移 氟化物源 硝酸 掩模 掩蔽 饱和磁化 富氮 移除 扩散 暴露 | ||
【主权项】：
1.一种用于从基底移除陶瓷涂层的方法，所述方法包括：使所述陶瓷涂层与包括氟化物源和硝酸的组合物接触，其中所述陶瓷涂层包括硅化铝、硅酸铝钠、硅酸铝钾、硅酸铝钾钠或它们的组合。
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