[发明专利]曝光机台对位标记调整优化方法有效
| 申请号： | 201910291619.5 | 申请日： | 2019-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN110109327B | 公开（公告）日： | 2021-11-23 |
| 发明（设计）人： | 丁华龙;李剑;单丹阳;褚维民;张斌;程校昌 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本揭示提供一种曝光机台对位标记调整优化方法包括：步骤S10：提供基板，所述基板上设有用于曝光机台抓取定位的对位标记；步骤S20：选择需要调试的图像传感器，根据所述对位标记，设定所述图像传感器上相应的对位标记参数以及光源参数；步骤S30：将图像传感器调整到目标光源，观察所述对位标记的变化，选取符合要求的所述目标光源；步骤S40：测量图像传感器抓取所述对位标记的准确率。本揭示通过对曝光机台的对位标记方法进行优化，以此提高NSK CCD对不同种类对位标记抓取能力以及抓取的准确率，使得产品的品质得到保障，同时也可以减少曝光过程中的对位时间，提高实际生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 机台 对位 标记 调整 优化 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光机台对位标记调整优化方法，其特征在于，包括：步骤S10：提供基板，所述基板上设有用于曝光机台抓取定位的对位标记；步骤S20：选择需要调试的图像传感器，根据所述对位标记，设定所述图像传感器上相应的对位标记参数以及光源参数；步骤S30：将所述图像传感器调整到目标光源，观察所述对位标记的变化，选取符合要求的所述目标光源；以及步骤S40：测量所述图像传感器抓取所述对位标记的准确率。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL华星光电技术有限公司，未经TCL华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910291619.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：制版方法
- 下一篇：一种长寿命高分辨率宽幅径打印机硒鼓的制造工艺
