[发明专利]晶片的加工方法在审
申请号: | 201910293069.0 | 申请日: | 2019-04-12 |
公开(公告)号: | CN110391183A | 公开(公告)日: | 2019-10-29 |
发明(设计)人: | 杉谷哲一 | 申请(专利权)人: | 株式会社迪思科 |
主分类号: | H01L21/78 | 分类号: | H01L21/78;H01L21/67 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 于靖帅;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供晶片的加工方法,能够对形成有多个闪存芯片的晶片进行适当地分割。晶片的加工方法至少包含如下的工序:切削槽形成工序,利用切削刀具(28)对分割预定线(14)进行切削而在第二存储层(10)形成切削槽(30);改质层形成工序,将对于半导体基板(4)具有透过性的波长的激光光线(LB)的聚光点定位于与分割预定线(14)对应的半导体基板(4)的内部而对半导体基板(4)照射激光光线(LB),从而形成改质层(42);分割工序,对半导体基板(4)的背面进行磨削,使裂纹(60)从改质层(42)生长而将晶片(2)分割成各个闪存芯片(12);以及DAF分割工序,在已分割成各个闪存芯片(12)的晶片(2)的背面(2b)上配设DAF(62),对支承DAF(62)的支承带(66)进行扩展而按照每个闪存芯片(12)对DAF(62)进行分割。 | ||
搜索关键词: | 晶片 半导体基板 闪存芯片 分割 改质层 分割预定线 形成工序 切削槽 背面 加工 照射激光光线 激光光线 切削刀具 存储层 聚光点 透过性 支承带 波长 切削 磨削 支承 生长 | ||
【主权项】:
1.一种晶片的加工方法,将通过分割预定线划分出多个闪存芯片的晶片分割成各个闪存芯片,该闪存芯片是将第一存储层和第二存储层连结起来而构成的,该第一存储层是在半导体基板的正面上将金属膜和绝缘膜交替地层叠多层而形成的,该第二存储层是在该第一存储层的上表面上以绝缘层为结合层而将金属膜和绝缘膜交替地层叠多层而形成的,其中,该晶片的加工方法至少包含如下的工序:切削槽形成工序,利用切削刀具对分割预定线进行切削而在该第二存储层形成切削槽;改质层形成工序,将对于半导体基板具有透过性的波长的激光光线的聚光点定位于与分割预定线对应的半导体基板的内部而对半导体基板照射激光光线,从而形成改质层;分割工序,对半导体基板的背面进行磨削而使裂纹从改质层生长,从而将晶片分割成各个闪存芯片;以及粘片膜分割工序,在已分割成各个闪存芯片的晶片的背面上配设粘片膜,对支承粘片膜的支承带进行扩展而按照每个闪存芯片对粘片膜进行分割。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社迪思科,未经株式会社迪思科许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910293069.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:晶片的加工方法
- 下一篇:第零层层间膜的制造方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造