[发明专利]含H酸结构双偶氮型耐晒酸性染料及其制备方法有效
申请号: | 201910293111.9 | 申请日: | 2019-04-12 |
公开(公告)号: | CN110079119B | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 崔志华;陈小勇;孙岩峰;杨福良 | 申请(专利权)人: | 杭州天马思宏数码科技有限公司 |
主分类号: | C07D211/46 | 分类号: | C07D211/46;C09B43/11;C09B43/28;D06P1/39;D06P1/673;D06P1/653;D06P3/16 |
代理公司: | 杭州中成专利事务所有限公司 33212 | 代理人: | 金祺 |
地址: | 310000 浙江省杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: |
本发明属于化工领域,具体涉及含H酸结构双偶氮型耐晒酸性染料及其制备方法。该制备方法为:步骤1)、五甲基哌啶醇的氯化反应,从而制备获得氯化中间体产物HALS‑Cl;步骤2)、HALS‑Cl与含H酸结构的双偶氮型酸性染料缩合,最终得到作为产物的含H酸结构双偶氮型耐晒酸性染料。本发明针对含H酸结构的双偶氮型酸性染料耐晒牢度偏低的问题,在染料结构中偶氮键相邻位置同时引入两个受阻胺光稳定片段,并将羟基和氨基分别转化为了醚键(‑O‑)和亚氨基(‑NH‑),有效避免了氨基(‑NH |
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搜索关键词: | 结构 偶氮 型耐晒 酸性染料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.含H酸结构双偶氮型耐晒酸性染料,其特征是结构通式为:
式中:R1为H、Cl;R2为H、Cl;R3为H、NO2;R4为H、Cl;R4所在的芳环为苯环或萘环。
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