[发明专利]含H酸结构双偶氮型耐晒酸性染料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910293111.9 申请日: 2019-04-12
公开(公告)号: CN110079119B 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 崔志华;陈小勇;孙岩峰;杨福良 申请(专利权)人: 杭州天马思宏数码科技有限公司
主分类号: C07D211/46 分类号: C07D211/46;C09B43/11;C09B43/28;D06P1/39;D06P1/673;D06P1/653;D06P3/16
代理公司: 杭州中成专利事务所有限公司 33212 代理人: 金祺
地址: 310000 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明属于化工领域,具体涉及含H酸结构双偶氮型耐晒酸性染料及其制备方法。该制备方法为:步骤1)、五甲基哌啶醇的氯化反应,从而制备获得氯化中间体产物HALS‑Cl;步骤2)、HALS‑Cl与含H酸结构的双偶氮型酸性染料缩合,最终得到作为产物的含H酸结构双偶氮型耐晒酸性染料。本发明针对含H酸结构的双偶氮型酸性染料耐晒牢度偏低的问题,在染料结构中偶氮键相邻位置同时引入两个受阻胺光稳定片段,并将羟基和氨基分别转化为了醚键(‑O‑)和亚氨基(‑NH‑),有效避免了氨基(‑NH2)或羟基(‑OH)的氧化反应,同时实现了双偶氮键的近距离保护,从而开发出一系列耐晒牢度优异的双偶氮型酸性染料。
搜索关键词: 结构 偶氮 型耐晒 酸性染料 及其 制备 方法
【主权项】:
1.含H酸结构双偶氮型耐晒酸性染料,其特征是结构通式为:式中:R1为H、Cl;R2为H、Cl;R3为H、NO2;R4为H、Cl;R4所在的芳环为苯环或萘环。
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