[发明专利]一种基于干涉仪复合测量的射流抛光去除函数提取方法

摘要

本发明公开了一种基于干涉仪复合测量的射流抛光去除函数提取方法，通过三次测量的面形数据，预处理采斑后面形，再进行抛光区域匹配、白光干涉仪分辨率下的初始面形估计，最终高精度地获取去除函数，解决了白光干涉仪的视场小，难以精确匹配采斑前后工件的面形的难题，提升了去除函数提取的精度。还提升了射流去除函数提取的自动化程度，通过高普适性的算法进行预处理采斑后面形、匹配采斑区域、插补初始面形、计算去除函数，大大降低了人工操作的复杂度，提升了工艺执行效率。本发明保证了采斑前后工件采斑区域相对位置的高度一致性，无需在白光干涉仪和机床上配备精密定位工具，降低了测量工艺成本，也能够避免测量过程中定位工具的装配误差。

主权项

1.一种基于干涉仪复合测量的射流抛光去除函数提取方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、采用激光干涉仪测量采斑前的工件面形F_bl；S2、在射流抛光机床上采集入射时间为T_s的射流抛光斑，采用激光干涉仪测量采斑后的工件面形F_al；用白光干涉仪采斑后，测量得到的面形为L_Φ×L_Φ的方形区域Φ，面形用F_aw′表示；S3、将面形F_aw′进行预处理，以获得无噪声或“孔洞”的面形F_aw；S4、通过粒子群优化算法确定面形F_al中的方形区域Φ；S5、确定射流抛光斑边界S6、计算采斑前工件在区域σ内的白光干涉仪分辨率下的面形S7、计算去除函数矩阵：根据光斑的边界获取面形F_aw中区域σ的面形计算去除量分布矩阵计算去除函数矩阵R＝(max(RM)‑RM)/T_s，其中T_s是采斑时间，max(RM)‑RM表示是矩阵RM的最大元素值与矩阵RM每个元素相减得到的新矩阵。