[发明专利]一种自修复型表面双电层分离膜制备方法在审
| 申请号： | 201910296614.1 | 申请日： | 2019-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN110124538A | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | 蔡韬;李雪;赵裕杰;张熙荣;向政;赵宏鹏 | 申请（专利权）人： | 武汉大学深圳研究院 |
| 主分类号： | B01D71/78 | 分类号： | B01D71/78;B01D69/02;B01D67/00 |
| 代理公司： | 广东德而赛律师事务所 44322 | 代理人： | 叶秀进 |
| 地址： | 518057 广东省深圳市南山区科*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种自修复型表面双电层分离膜的制备方法，先分别合成带负电或者正电的两组分聚合物，再利用聚多巴胺或者鞣酸的粘附性，将带负电的两组分聚合物接枝于分离膜表面，之后再将带正电的两组分聚合物接枝于分离膜上，制备得到具有自修复性能的表面双电层分离膜。本发明利用在次外层的负电聚合物提供表面功能性，利用最外层的正电聚合物与次外层负电聚合物之间的静电相互作用，使分离膜表面在受到微损伤出现微缝隙时，由邻近聚合物提供补偿电荷，及时修复微缝隙，提高分离膜表面功能层的稳定性。本发明处理得到的自修复型表面双电层分离膜，制备材料来源广泛，制备过程简单，具有较好的应用前景和市场前景。 | ||
| 搜索关键词： | 分离膜 负电 聚合物 双电层 分离膜表面 组分聚合物 自修复 制备 次外层 微缝隙 接枝 表面功能性 自修复性能 补偿电荷 聚多巴胺 制备材料 制备过程 静电 功能层 微损伤 再利用 粘附性 最外层 鞣酸 合成 邻近 修复 应用 | ||
【主权项】：
1.一种自修复型表面双电层分离膜的制备方法，其特征在于，包括有如下步骤：S1，制备带电性为负电荷的两组分共聚物A‑B；S2，制备带电性为正电荷的两组分共聚物C‑D；S3，在分离膜表面涂覆粘附性材料；S4，将步骤S1中所制备的两组分共聚物A‑B配置成水溶液接枝修饰于步骤S3涂覆后的分离膜表面；S5，将步骤S2中所制备的两组分共聚物C‑D配置成水溶液修饰于步骤S4表面负电性改性分离膜，得到自修复型表面双电层分离膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉大学深圳研究院，未经武汉大学深圳研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910296614.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
