[发明专利]一种静电放电保护结构及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201910299308.3 申请日: 2019-04-15
公开(公告)号: CN110071104B 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 李志国 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L21/82
代理公司: 北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙) 11479 代理人: 陈敏
地址: 430074 湖北省武汉市洪山区东*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种静电放电保护结构及其制作方法,该静电放电保护结构包括空闲区域、放电元件区域及衬底接触部,其中,放电元件区域环绕空闲区域的四周,放电元件区域中设有多个并联连接的NMOS晶体管,衬底接触部环绕放电元件区域四周。本发明的静电放电保护结构删除了中心衬底电阻最大的NMOS晶体管,只保留周围的NMOS晶体管,这些保留的NMOS晶体管的衬底电阻相差不多,可以实现静电放电保护结构中所有NMOS晶体管均匀导通放电,大大提高静电放电保护结构的整体保护能力。
搜索关键词: 一种 静电 放电 保护 结构 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种静电放电保护结构,其特征在于,包括:空闲区域;放电元件区域,环绕所述空闲区域的四周,所述放电元件区域中设有多个并联连接的NMOS晶体管;衬底接触部,环绕所述放电元件区域四周。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长江存储科技有限责任公司,未经长江存储科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910299308.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top