[发明专利]一种解理制备石墨烯的方法在审
申请号: | 201910302249.0 | 申请日: | 2019-04-16 |
公开(公告)号: | CN110040721A | 公开(公告)日: | 2019-07-23 |
发明(设计)人: | 黄元 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | C01B32/184 | 分类号: | C01B32/184 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 郭广迅 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种解理制备石墨烯的方法,包括以下步骤:(1)在不使用溶剂清洗基底的表面的情况下,仅通过氧等离子体清洗基底的表面;(2)用胶带机械解理石墨,将胶带上的石墨贴附到步骤(1)中制得的等离子体清洗的基底表面上,得到胶带‑石墨‑基底材料,于80~140℃下热处理1~30分钟;和(3)将步骤(2)中制得的胶带‑石墨‑基底材料自然冷却,从基底上剥离胶带,从而制得石墨烯。本发明的方法可以简单高效地制备大面积(例如,面积为85200μm2)的石墨烯,制得的石墨烯兼顾了高质量和大面积的需求,可以满足更多高精度实验对样品的需求。本发明的制备方法简单,不需要在溶剂中超声清洗基底,提高了解理效率。 | ||
搜索关键词: | 石墨烯 石墨 胶带 基底 制备 解理 基底材料 等离子体清洗 氧等离子体 热处理 剥离胶带 超声清洗 基底表面 溶剂清洗 溶剂 贴附 清洗 | ||
【主权项】:
1.一种解理制备石墨烯的方法,包括以下步骤:(1)在不使用溶剂清洗基底的表面的情况下,仅通过氧等离子体清洗基底的表面;(2)用胶带机械解理石墨,将胶带上的石墨贴附到步骤(1)中制得的等离子体清洗的基底表面上,得到胶带‑石墨‑基底材料,于80~140℃下热处理1~30分钟;和(3)将步骤(2)中制得的胶带‑石墨‑基底材料自然冷却,从基底上剥离胶带,从而制得石墨烯。
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