[发明专利]用于盖与喷嘴上的稀土氧化物基涂层的离子辅助沉积有效
| 申请号： | 201910305677.9 | 申请日： | 2014-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN110016645B | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | J·Y·孙;B·P·卡农戈;V·菲鲁兹多尔;Y·张 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/04;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/18;C23C14/30;C23C14/58 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 汪骏飞;侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于处理腔室的腔室部件、抗等离子体盖或喷嘴及制造制品的方法。制造制品的方法包含提供用于蚀刻反应器的盖或喷嘴。随后执行离子辅助沉积(IAD)以在盖或喷嘴的至少一个表面上沉积保护层，其中，保护层是具有小于300μm的厚度以及10微英寸或更小的平均表面粗糙度的抗等离子体的稀土氧化物膜。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 喷嘴 稀土 氧化物 涂层 离子 辅助 沉积 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理腔室的部件，包括：陶瓷主体，所述陶瓷主体具有至少一个表面，所述至少一个表面具有大约8‑16微英寸的第一平均表面粗糙度；以及共形保护层，所述共形保护层位于所述陶瓷主体的至少一个表面上，其中所述共形保护层是在所述至少一个表面上面具有小于300μm的基本上均匀的厚度的抗等离子体稀土氧化物膜，并且所述抗等离子体稀土氧化物膜具有小于所述第一平均表面粗糙度的第二平均表面粗糙度。
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