[发明专利]一种玻璃微蚀刻方法在审
| 申请号： | 201910308840.7 | 申请日： | 2019-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN110156338A | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 杨金发 | 申请（专利权）人： | 蚌埠国显科技有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙) 34119 | 代理人： | 段晓微 |
| 地址： | 233000 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种玻璃微蚀刻方法，包括：在玻璃表面均匀涂覆金属铬形成铬层，在铬层表面均匀涂覆光刻胶形成胶层后得到覆膜玻璃；将覆膜玻璃曝光显影后得到预蚀刻玻璃；将预蚀刻玻璃投入蚀刻机中，采用蚀刻液进行蚀刻减薄；其中，所述蚀刻液的原料按质量百分比包括：H2SO4 30‑40％、HF 1.1‑2％、HCl 0.1‑0.5％、HNO3 0.1‑1％、草酸0.2‑1％、脂肪醇聚氧乙烯醚0.03‑0.5％，余量为去离子水。本发明提出的玻璃微蚀刻方法，其过程简单，蚀刻良率高，可实现量产。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 玻璃 微蚀刻 覆膜玻璃 均匀涂覆 蚀刻液 脂肪醇聚氧乙烯醚 草酸 质量百分比 玻璃表面 铬层表面 曝光显影 去离子水 光刻胶 金属铬 蚀刻机 铬层 减薄 胶层 良率 量产 | ||
【主权项】：
1.一种玻璃微蚀刻方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、在玻璃表面均匀涂覆金属铬形成铬层，在铬层表面均匀涂覆光刻胶形成胶层后得到覆膜玻璃；S2、将覆膜玻璃曝光显影后得到预蚀刻玻璃；S3、将预蚀刻玻璃投入蚀刻机中，采用蚀刻液进行蚀刻减薄；其中，所述蚀刻液的原料按质量百分比包括：H2SO4 30‑40％、HF 1.1‑2％、HCl 0.1‑0.5％、HNO3 0.1‑1％、草酸0.2‑1％、脂肪醇聚氧乙烯醚0.03‑0.5％，余量为去离子水。
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