[发明专利]一种二氧化钒-Sb薄膜材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910311279.8 申请日: 2019-04-18
公开(公告)号: CN110176536B 公开(公告)日: 2023-04-18
发明(设计)人: 吕业刚;张倩 申请(专利权)人: 宁波大学
主分类号: H10N70/00 分类号: H10N70/00
代理公司: 宁波奥圣专利代理有限公司 33226 代理人: 何仲
地址: 315211 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种兼具高速和高数据保持力的二氧化钒‑Sb薄膜材料及其制备方法,特点是其化学结构式为(VO2xSb100‑x,其中VO2的原子数百分含量为0x30,其制备方法具体步骤如下:采用高纯度Sb单质与VO2作为靶材,采用磁控溅射装置,采用双靶共溅射方法,以高纯氩气作为工作气体,采用石英片或硅片为衬底材料进行表面沉积,将Sb单质靶的直流溅射功率调整为14‑18W,Sb单质靶的射频溅射功率调整为30‑35W,于室温下进行溅射镀膜,得到用于相变存储器的VO2‑Sb薄膜材料,优点是具有较高的结晶温度和数据保持力,较快的结晶速度,较大的非晶态/晶态电阻比以及较好的热稳定性。
搜索关键词: 一种 氧化 sb 薄膜 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波大学,未经宁波大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910311279.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top