[发明专利]一种超薄膜光学常数快速测量方法

摘要

本发明属于超薄膜光学性质测量表征研究领域，并具体公开了一种超薄膜光学常数快速测量方法，其包括如下步骤：S1利用照射至待测超薄膜光源的p光幅值反射系数rp和s光幅值反射系数rs表达超薄膜材料的幅值反射系数比S2对以2πdf/λ为变量在df＝0处进行二阶泰勒展开获得二阶近似形式；S3对二阶近似形式进行合并简化及替换处理将其转化为一元四次方程；S4对一元四次方程进行求解获得超薄膜材料光学常数的多个解，并通过条件判断获得正解，以此完成超薄膜光学常数的快速测量。本发明可实现超薄膜光学常数的快速测量，具有测量快速、测量准确等优点。

主权项

1.一种超薄膜光学常数快速测量方法，其特征在于，包括如下步骤：S1利用照射至待测量超薄膜材料的入射光的p光幅值反射系数r_p和s光幅值反射系数r_s表达超薄膜材料的幅值反射系数比ρ：S2对以2πd_f/λ为变量在d_f＝0处进行二阶泰勒展开获得二阶近似形式：其中，ρ₀为超薄膜材料所用基底的幅值反射系数比，d_f为超薄膜材料的厚度，λ为入射光的波长，ρ'、ρ″₁和ρ″₂均为系数；S3对二阶近似形式进行合并简化及替换处理以转化为一元四次方程；S4对一元四次方程进行求解获得超薄膜材料光学常数的多个解，并通过条件判断获得正解，该正解即为待测量超薄膜材料的光学常数，以此完成超薄膜光学常数的快速测量。