[发明专利]一种高抗拉电解液中走位剂的定量分析方法有效
申请号: | 201910315976.0 | 申请日: | 2019-04-19 |
公开(公告)号: | CN110186980B | 公开(公告)日: | 2022-10-25 |
发明(设计)人: | 范远朋;黄雨晖 | 申请(专利权)人: | 九江德福科技股份有限公司 |
主分类号: | G01N27/416 | 分类号: | G01N27/416;G01N27/48 |
代理公司: | 北京纽乐康知识产权代理事务所(普通合伙) 11210 | 代理人: | 张朝元 |
地址: | 332000 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本发明涉及一种高抗拉电解液中走位剂的电化学定量分析方法,包括以下步骤:配制仿电解液,配制成检测基体溶液,配制成标准走位剂检测溶液,配制成预混液;将标准走位剂检测溶液间断加入含有检测基体溶液反应槽中,使用循环伏安法分析记录每次标准走位剂检测溶液加入前后检测基体溶液的伏安特性曲线;再绘制预混液检测曲线图,并根据结果设定检测常数;再绘制样品曲线图,根据已有的标准曲线及检测常数计算样品中走位剂的浓度。本发明的有益效果为:使用电化学方式,通过调整检测基体溶液和检测常数,一定程度消除了样品中光亮剂造成的影响,降低了测量误差,为高抗拉铜箔配方提供了一个有效的监控手段。 | ||
搜索关键词: | 一种 高抗拉 电解液 中走位剂 定量分析 方法 | ||
【主权项】:
1.一种高抗拉电解液中走位剂的电化学定量分析方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、配制仿电解液,仿电解液中包括H2SO4和CuSO4,向所述仿电解液中加入光亮剂配制成检测基体溶液,向所述仿电解液中加入走位剂配制成标准走位剂检测溶液,向所述仿电解液中加入添加剂配制成预混液;S2、将标准走位剂检测溶液间断加入含有检测基体溶液反应槽中,使用循环伏安法分析记录每次标准走位剂检测溶液加入前后检测基体溶液的伏安特性曲线,分析所得的伏安特性曲线,绘制标准曲线;S3、将预混液间断加入含有检测基体溶液反应槽中,利用所述步骤2中循环伏安法得到伏安特性曲线,分析伏安特性曲线,绘制预混液检测曲线图,并根据结果设定检测常数;S4、取稀释后的样品,将稀释后的样品间断加入含有检测基体溶液反应槽中,利用所述步骤S2中循环伏安法得到伏安特性曲线,分析伏安特性曲线,根据已有的标准曲线及检测常数计算样品中走位剂的浓度。
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