[发明专利]光致抗蚀刻剂薄膜及应用其的光蚀刻方法有效
| 申请号： | 201910323364.6 | 申请日： | 2019-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN110032043B | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 陈俊铭 | 申请（专利权）人： | 业成科技（成都）有限公司;业成光电（深圳）有限公司;英特盛科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09;G03F7/16;G03F7/42 |
| 代理公司： | 成都希盛知识产权代理有限公司 51226 | 代理人： | 杨冬梅;张行知 |
| 地址： | 611730 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种光蚀刻方法，提供一基板，基板为透明材料，基板包括相背的第一表面及第二表面，一材料层设置于第一表面，一第一光致抗蚀刻剂薄膜设置于材料层远离基板一侧；提供一第二光致抗蚀刻剂薄膜，将第二光致抗蚀刻剂薄膜设置于第二表面，所述隔光层设置于第二光致抗蚀刻剂薄膜靠近基板一侧，所述感光层设置于第二光致抗蚀刻剂薄膜远离基板一侧；将基板放置于一曝光机台上，对第一光致抗蚀刻剂薄膜及第二光致抗蚀刻剂薄膜进行曝光；使用蚀刻液对曝光后的第一光致抗蚀刻剂薄膜以及材料层进行蚀刻，使材料层获得一第一图案，随后去除第一光致抗蚀刻剂薄膜；使用蚀刻液对曝光后的第二光致抗蚀刻剂薄膜进行蚀刻，使第二光致抗蚀刻剂薄膜获得一第二图案。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗 蚀刻 薄膜 应用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀刻剂薄膜，其特征在于：所述光致抗蚀刻剂薄膜为多层结构，至少包括一层隔光层和一层感光层，所述隔光层不透光，所述感光层为不透明材料，所述感光层包含感光材料，所述感光层的材料性质会因光照发生改变，所述感光层被光照射的部分和未被光照射的部分对于同一种溶剂的溶解度不相同。
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