[发明专利]废气等离子体处理设备和包括其的废气等离子体处理系统在审
| 申请号： | 201910323621.6 | 申请日： | 2019-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN110404382A | 公开（公告）日： | 2019-11-05 |
| 发明（设计）人： | 高承锺 | 申请（专利权）人： | (株)因努彼亚 |
| 主分类号： | B01D53/32 | 分类号： | B01D53/32;B01D50/00 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 程月;尹淑梅 |
| 地址： | 韩国大*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 公开了使用焰炬等离子体的废气等离子体处理设备和系统。该设备采用工作气体供应管与腔室的壁之间以及工作气体供应管与废气进气管之间的热交换构造，以利用在等离子体腔室中产生的热来预热工作气体、废气和废气进气管。此外，围绕腔室的壁的外壳在它们之间提供废气混合空间，以使废气混合并将混合后的气体置于腔室的处理空间中。设备可作为小型化的POU设备连接到半导体制造设施的每个处理单元，并且湿式洗涤器可布置在其下游位置中以有效地处理包括温室气体的废气。 | ||
| 搜索关键词： | 废气 工作气体 腔室 等离子体处理设备 废气进气管 废气混合 供应管 热交换 等离子体处理系统 等离子体 半导体制造设施 等离子体腔室 湿式洗涤器 处理单元 处理空间 设备连接 温室气体 下游位置 有效地 预热 焰炬 | ||
【主权项】：
1.一种废气等离子体处理设备，所述废气等离子体处理设备包括：腔室，具有由壁形成的废气的处理空间；焰炬，被安装为产生用于处理腔室的处理空间中的废气的火焰；以及工作气体供应单元，具有工作气体供应管以将工作气体供应到焰炬，其中，工作气体供应管被安装为围绕腔室的壁至少一次，从而与腔室的壁进行热交换。
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