[发明专利]具有可转换机械性能的纳米压印光刻材料在审
| 申请号： | 201910330128.7 | 申请日： | 2019-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN110471253A | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 奥斯汀·莱恩;马修·E·科尔布恩;朱塞佩·卡拉菲奥雷;尼哈尔·兰詹·莫汉蒂 | 申请（专利权）人： | 脸谱科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/027;G03F7/075 |
| 代理公司： | 11240 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 刘瑞贤<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本申请公开了具有可转换机械性能的纳米压印光刻材料。描述了一种利用具有可转换机械性能的NIL材料的方法。该方法包括施加压印掩模到纳米压印光刻(NIL)材料层。NIL材料层由模量水平低于柔性阈值的NIL材料组成。所述NIL材料层具有当改变时引起NIL材料的模量水平的改变的内部特性。方法进一步包括从压印掩模分离压印NIL材料层，NIL材料的低模量水平使得在分离后所述压印NIL材料层的形状保持不变。通过改变NIL材料的内部特性来增加NIL材料的模量水平，模量水平的增加超过强度阈值以产生第一压印层，该第一压印层的结构保持不受后续工艺的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 材料层 压印 机械性能 纳米压印光刻 可转换 压印层 后续工艺 结构保持 形状保持 掩模分离 低模量 掩模 施加 申请 | ||
【主权项】：
1.一种用于纳米压印光刻的方法，包括:/n将压印掩模施加到纳米压印光刻NIL材料层以创建压印NIL材料层，所述NIL材料层包括模量水平低于柔性阈值的NIL材料，所述NIL材料层还具有当改变时引起所述NIL材料的模量水平改变的内部特性；/n从所述压印掩模分离所述压印NIL材料层，所述NIL材料的模量水平使得在进行所述分离后所述压印NIL材料层的形状保持不变；以及/n通过改变所述NIL材料的所述内部特性来增加所述压印NIL材料层的所述NIL材料的模量水平，所述模量水平增加为超过强度阈值以创建第一压印层，所述第一压印层在经历形成第二压印层的处理之后仍保持其结构。/n
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