[发明专利]包括多倍高度标准单元的集成电路及其设计方法在审

专利信息
申请号: 201910331450.1 申请日: 2019-04-23
公开(公告)号: CN110634857A 公开(公告)日: 2019-12-31
发明(设计)人: 李大成;金雅凛;金珉修;刘钟奎 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;G06F17/50
代理公司: 11021 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 倪斌
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供了包括多倍高度标准单元的集成电路及其设计方法。根据实施例,集成电路包括半导体衬底、第一至第三电力轨、第一至第三选择栅极线和行连接配线。半导体衬底上的第一至第三电力轨在第一方向上延伸并且在垂直于第一方向的第二方向上顺序地布置。半导体衬底上的第一至第三选择栅极线在第一电力轨和第二电力轨之间的第一区域以及第二电力轨和第三电力轨之间的第二区域上方沿第二方向延伸,并且在第一方向上顺序地布置。半导体衬底上的行连接配线在第一方向上延伸,以连接第一选择栅极线和第三选择栅极线。
搜索关键词: 电力轨 选择栅极线 衬底 半导体 连接配线 集成电路 第二区域 第一区域 方向延伸 高度标准 延伸 垂直
【主权项】:
1.一种集成电路,包括:/n半导体衬底;/n第一电力轨、第二电力轨和第三电力轨,在第一方向上延伸并且在垂直于所述第一方向的第二方向上顺序地布置在所述半导体衬底上;/n第一选择栅极线、第二选择栅极线和第三选择栅极线,在所述第一电力轨和所述第二电力轨之间的第一区域以及所述第二电力轨和所述第三电力轨之间的第二区域上方沿所述第二方向延伸,并在所述第一方向上顺序地布置;以及/n行连接配线,在所述第一方向上延伸以连接所述第一选择栅极线和所述第三选择栅极线。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910331450.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top