[发明专利]用于发射X射线的场致发射器件及其制备方法有效
申请号: | 201910333271.1 | 申请日: | 2019-04-24 |
公开(公告)号: | CN110071027B | 公开(公告)日: | 2022-02-15 |
发明(设计)人: | 张道书;侯玉欣;陈明;李威威;何可;钟国华;杨春雷 | 申请(专利权)人: | 深圳先进技术研究院 |
主分类号: | H01J35/06 | 分类号: | H01J35/06;H01J9/02;B82Y10/00;B82Y30/00 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰 |
地址: | 518055 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于发射X射线的场致发射器件及其制备方法。该制备方法包括:在基底上形成金属电极层;在所述金属电极层上形成铜基底层;在所述铜基底层上形成硫化亚铜纳米线层。该场致发射器件包括:基底;金属电极层,设置于所述基底上;铜基底层,设置于所述金属电极层上;硫化亚铜纳米线层,设置于所述铜基底层上。该制备方法简单易于控制,条件温和,适用于具有大面积的场致发射电极阵列的制备,且制成的器件具有体积小、工作寿命长、场发射性能优异等优点。 | ||
搜索关键词: | 用于 发射 射线 器件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于发射X射线的场致发射器件,其特征在于,包括:基底(10);金属电极层(20),设置于所述基底(10)上;铜基底层(30),设置于所述金属电极层(20)上;硫化亚铜纳米线层(40),设置于所述铜基底层(30)上。
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