[发明专利]刻蚀液、刻蚀组合液以及刻蚀方法有效
| 申请号： | 201910336342.3 | 申请日： | 2019-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN110079803B | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 赵芬利;秦文;张月红 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/02 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种刻蚀液、刻蚀组合液以及刻蚀方法。刻蚀液包括双氧水、有机酸、无机酸、调节剂、稳定剂、抑制剂、醇类物质、消泡剂以及去离子水。刻蚀组合液包括上述刻蚀液以及补给液；所述补给液包括溶解剂、第二有机酸、第二稳定剂、第二抑制剂以及第二消泡剂。该方案中刻蚀液不包含氟，避免了对基板的腐蚀，提高了显示面板的良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀 组合 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种刻蚀液，其特征在于，包括：双氧水、有机酸、无机酸、调节剂、稳定剂、抑制剂、醇类物质、消泡剂以及去离子水。
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