[发明专利]研磨垫原材料、研磨垫的制造方法、磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法有效

专利信息
申请号: 201910343724.9 申请日: 2015-10-14
公开(公告)号: CN110253419B 公开(公告)日: 2021-08-13
发明(设计)人: 山城祐治;久原巧己 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: B24B37/04 分类号: B24B37/04;B24B37/10;G11B5/84;G11B5/858
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 庞东成
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及研磨垫原材料、研磨垫的制造方法、磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法。一种能够降低波长为50~200μm的微小起伏的磁盘用基板的制造方法,该制造方法包括下述研磨处理,即,用一对研磨垫夹持基板,向上述研磨垫与上述基板之间供给包含研磨磨粒的浆料,使上述研磨垫与上述基板相对滑动,由此对上述基板的两主表面进行研磨。上述研磨垫的研磨面由完成了开口处理的发泡树脂材料构成,该开口处理在上述基板的上述研磨处理前实施,其为将发泡树脂材料的至少表面膜削去而形成开口。使用上述开口处理前的上述发泡树脂材料的上述表面膜的表面粗糙度中的算术平均粗糙度Ra为0.65μm以下的发泡树脂材料作为开口处理前的研磨垫的原材料。
搜索关键词: 研磨 原材料 制造 方法 磁盘 用基板
【主权项】:
1.一种研磨垫原材料,其是在内部具有2个以上的空隙的发泡树脂制的研磨垫原材料,该研磨垫原材料在实施了使所述2个以上的空隙的至少一部分露出在表面而形成开口的开口处理后作为对基板的表面进行研磨的研磨垫而用于研磨处理,其特征在于,使用激光显微镜对所述研磨垫原材料的表面进行测定时,所述表面的算术平均粗糙度Ra为0.65μm以下。
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