[发明专利]用于真空处理设备的密封装置和真空处理设备在审
| 申请号： | 201910350063.2 | 申请日： | 2019-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN109944943A | 公开（公告）日： | 2019-06-28 |
| 发明（设计）人： | 王凯麟;左涛涛;陈星建 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | F16J15/10 | 分类号： | F16J15/10 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种用于真空处理设备的密封装置和真空处理设备，其中，用于真空处理设备的密封装置包括：第一部件，所述第一部件包括第一面，所述第一面上具有第一陶瓷层；第二部件，所述第二部件包括第二面，所述第二面与第一面相对；位于所述第一陶瓷层表面的第一聚合物密封涂层；位于所述第一部件与第二部件之间的密封部件，所述密封部件与第一聚合物密封涂层和第二陶瓷层接触。所述密封装置具有低漏率和高抗腐蚀性的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 真空处理设备 聚合物密封 密封部件 第二面 陶瓷层 陶瓷层表面 高抗 漏率 | ||
【主权项】：
1.一种用于真空处理设备的密封装置，其特征在于，包括：第一部件，所述第一部件包括第一面，所述第一面上具有第一陶瓷层；第二部件，所述第二部件包括第二面，所述第二面与第一面相对；位于所述第一陶瓷层表面的第一聚合物密封涂层；位于所述第一部件与第二部件之间的密封部件，所述密封部件与第一聚合物密封涂层和第二部件接触。
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