[发明专利]用于红外辐射生成的光子转换晶片的设计方法和系统有效
申请号: | 201910351125.1 | 申请日: | 2019-04-28 |
公开(公告)号: | CN110222365B | 公开(公告)日: | 2021-09-07 |
发明(设计)人: | 田义;李艳红;李奇;王帅豪;沈涛;孟宇麟;李凡;杨扬;柴娟芳;张励;史松伟;孙刚 | 申请(专利权)人: | 上海机电工程研究所 |
主分类号: | G06F30/20 | 分类号: | G06F30/20;H01L21/82 |
代理公司: | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人: | 庄文莉 |
地址: | 201100 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种用于红外辐射生成的光子转换晶片的设计方法和系统,选定材料折射率及厚度,确定所需模拟的图像帧周期、图像空间分辨率以及图像温度范围;根据折射率计算出材料的反射率及光谱发射率的最大调制,推算得出晶片的加热温度;获得模拟所需的最低发射率,推算总吸收系数变化范围,计算出吸收系数的变化范围,确定复介电常数虚部的变化范围,计算出载流子浓度变化的范围,计算得到的载流子浓度的最小值记为晶片的掺杂浓度;确定载流子寿命,计算得到的载流子浓度的最大值记为最大载流子浓度,选取泵浦光波长,计算得到泵浦功率密度。本发明能够实现基于光子诱导半导体红外辐射转换芯片的设计,为红外目标模拟装置的研制提供重要途径。 | ||
搜索关键词: | 用于 红外 辐射 生成 光子 转换 晶片 设计 方法 系统 | ||
【主权项】:
1.一种用于红外辐射生成的光子转换晶片的设计方法,其特征在于,确定选定材料类型及厚度,根据所需模拟的图像帧周期、图像空间分辨率、图像温度范围,得到了基于光子诱导红外辐射生成的光子转换的设计参数。
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