[发明专利]一种高分辨率AMOLED显示结构及其制备方法

摘要

本发明涉及微电子技术领域，特别涉及一种高分辨率AMOLED显示结构及其制备方法，包括TFT区域结构，所述TFT区域结构包括玻璃层、第一金属层、第一绝缘层、第一半导体层、第二绝缘层、第二金属层、第三绝缘层、第二半导体层、第三金属层、第四绝缘层、第一有机层、第四金属层、第二有机层和第五金属层，通过将第一半导体层和第二半导体层设置在不同结构层，能够缩小亚像素补偿电路设计需求的尺寸，从而提升面板的分辨率。

主权项

1.一种高分辨率AMOLED显示结构，包括TFT区域结构，其特征在于，所述TFT区域结构包括玻璃层，在所述TFT区域结构的玻璃层表面上依次层叠设置有第一金属层、第一绝缘层、第一半导体层、第二绝缘层、第二金属层、第三绝缘层、第二半导体层、第三金属层、第四绝缘层、第一有机层、第四金属层、第二有机层和第五金属层，所述TFT区域结构的第二绝缘层上设有第一过孔，所述第一过孔中填充有第二金属层，所述第二金属层分别与所述TFT区域结构的第一半导体层远离所述TFT区域结构的玻璃层的一侧面和所述TFT区域结构的第二绝缘层远离所述TFT区域结构的玻璃层的一侧面接触，所述TFT区域结构的第四绝缘层上设有第二过孔，所述TFT区域结构的第一有机层上设有第三过孔，所述第二过孔与所述第三过孔相对设置且连通，所述第二过孔和第三过孔中均填充有第四金属层，所述第四金属层与所述TFT区域结构的第三金属层远离所述TFT区域结构的玻璃层的一侧面接触。