[发明专利]晶硅及其晶体生长工艺在审

专利信息
申请号: 201910354175.5 申请日: 2019-04-29
公开(公告)号: CN110158148A 公开(公告)日: 2019-08-23
发明(设计)人: 刘海;张新皓;许一柠 申请(专利权)人: 江苏协鑫软控设备科技发展有限公司
主分类号: C30B15/20 分类号: C30B15/20;C30B29/06
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 唐清凯;闫晓欣
地址: 221001 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种晶硅及其晶体生长工艺。其中,晶硅的晶体生长工艺包括如下步骤:在单位时间内,根据熔体中掺杂元素的分凝系数K,控制加料重量和长晶重量的加料比率,使其为K的线性函数。上述晶硅的晶体生长工艺,能够使溶液中减少的杂质总量与进入晶体的杂质总量相等,从而得到电阻率分布均匀的晶硅材料。此外,还涉及一种采用上述晶体生长工艺制备得到的晶硅。
搜索关键词: 晶体生长工艺 晶硅 杂质总量 加料 电阻率分布 掺杂元素 分凝系数 晶硅材料 线性函数 晶体的 熔体 制备 种晶 相等
【主权项】:
1.一种晶硅的晶体生长工艺,其特征在于,在单位时间内,根据熔体中掺杂元素的分凝系数K,控制加料重量和长晶重量的加料比率,使其为K的线性函数。
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