[发明专利]一种多层拓扑绝缘体的Faraday极化偏转分析方法有效
申请号: | 201910354186.3 | 申请日: | 2019-04-29 |
公开(公告)号: | CN110045306B | 公开(公告)日: | 2021-03-30 |
发明(设计)人: | 曾然;陈芳芳;张猛;胡淼;李浩珍;毕美华;杨淑娜;李齐良 | 申请(专利权)人: | 杭州电子科技大学 |
主分类号: | G01R33/12 | 分类号: | G01R33/12 |
代理公司: | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人: | 周希良;王日精 |
地址: | 310018 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明属于光学技术领域,具体涉及一种多层拓扑绝缘体的Faraday极化偏转分析方法,包括以下步骤:S1、建立多层拓扑绝缘体结构的模型;S2、确定边界条件;S3、计算多层拓扑绝缘体的传输矩阵;S4、计算光从普通介质入射至多层拓扑绝缘体的透射系数;S5、计算所述模型下的Faraday旋转角和透射光相位差。本发明根据传输矩阵法计算线偏振光从普通绝缘体入射到多层拓扑绝缘体的Faraday极化偏转角以及相位差的方法,能准确地分析多层拓扑绝缘体的Faraday效应的特性。 | ||
搜索关键词: | 一种 多层 拓扑 绝缘体 faraday 极化 偏转 分析 方法 | ||
【主权项】:
1.一种多层拓扑绝缘体的Faraday极化偏转分析方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、建立多层拓扑绝缘体结构的模型;S2、确定边界条件;S3、计算多层拓扑绝缘体的传输矩阵;S4、计算光从普通介质入射至多层拓扑绝缘体的透射系数;S5、计算所述模型下的Faraday旋转角和透射光相位差。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州电子科技大学,未经杭州电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910354186.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种准闭路软磁测量仪
- 下一篇:一种磁心材料磁滞回线测量方法