[发明专利]含有苯并恶唑或苯并噻唑基团的肟酯类化合物及其制备方法和应用

摘要

本发明提供了一种含有苯并恶唑或苯并噻唑基团的肟酯类化合物及其制备方法和应用，在该肟酯类化合物中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8分别选自氢、卤素原子、R、OR、SR、SOR、SO2R、NRR’、CH2OH、CH2OR、CH2OCOR、CH2SR、CH2SCOR和CH2NRR’；R9和R10分别选自C1‑C20直链烷基或C1‑C20支链烷基、C3‑C12环烷基、环烷基烷基、环杂烷基烷基、C6‑C12芳基、烷基芳基；本发明的肟酯类化合物作为辐射固化光敏引发剂以及在辐射固化配方产品中应用，特别是在UV‑Vis‑LED可激发的光固化涂料或油墨等场合应用。

主权项

1.一种含有苯并恶唑或苯并噻唑基团的肟酯类化合物，其特征在于：其通式如下：其中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇和R₈分别选自氢、卤素原子、R、OR、SR、SOR、SO₂R、NRR’、CH₂OH、CH₂OR、CH₂OCOR、CH₂SR、CH₂SCOR和CH₂NRR’中的一种以上；R和R’分别选自C₁‑C₂₄直链烷基、C₁‑C₂₄支链烷基和‑C₆‑C₂₄芳基中的一种以上；R₉和R₁₀分别选自C₁‑C₂₀直链烷基、C₁‑C₂₀支链烷基、C₃‑C₁₂环烷基、环烷基烷基、环杂烷基烷基、C₆‑C₁₂芳基、烷基芳基和R取代芳基中的一种以上。