[发明专利]一种蒸发源装置有效
| 申请号： | 201910363036.9 | 申请日： | 2019-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN110042345B | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 肖世艳;彭久红 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种蒸发源装置，包括：主坩埚组件，包括多个倾斜排列的主坩埚，每一所述主坩埚均包括N个喷嘴；以及，补位坩埚组件，包括N‑1个补位坩埚，所述补位坩埚组件的喷嘴的连线形成直角三角形，以将所述主坩埚组件的喷嘴阵列填补为矩形方阵；本发明中坩埚组件提升坩埚内材料切换速度和设备保养效率，任意相邻每一排和每一列的喷嘴用于喷出的蒸镀材料种类均相同，且任意相邻的两个喷嘴用于喷出不相同的蒸镀材料，提升蒸镀材料间均一性，从而在基板上形成多种蒸镀材料种类和比例分布均匀的膜层，围绕蒸发源装置轮廓上设置有多层制限板，有效控制了蒸镀成膜区，利于保证器件结构的完整和性能，同时可通过增加蒸镀成膜区以提高蒸镀材料的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蒸发 装置 | ||
【主权项】：
1.一种蒸发源装置，其特征在于，包括：主坩埚组件，包括多个倾斜排列的主坩埚，每一所述主坩埚均包括N个喷嘴，所述主坩埚组件的喷嘴阵列分布形成平行四边形；以及，补位坩埚组件，包括N‑1个补位坩埚，所述补位坩埚组件的喷嘴的连线形成直角三角形，以将所述主坩埚组件的喷嘴阵列填补为矩形方阵；其中，所述矩形方阵中任意相邻每一排和每一列的喷嘴用于喷出的蒸镀材料种类均相同，且任意相邻的两个喷嘴用于喷出不相同的蒸镀材料。
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