[发明专利]一种用于评估黑矩阵的阈值曲线的拟合方法、黑矩阵的评估方法有效
申请号: | 201910364010.6 | 申请日: | 2019-04-30 |
公开(公告)号: | CN109920356B | 公开(公告)日: | 2022-07-01 |
发明(设计)人: | 王永垚;苏秋杰;高玉杰;朱宁;缪应蒙 | 申请(专利权)人: | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G09G3/00 | 分类号: | G09G3/00 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明的实施例提供一种用于评估黑矩阵的阈值曲线的拟合方法、黑矩阵的评估方法,涉及显示技术领域,可提高评估黑矩阵的准确性。一种用于评估黑矩阵的阈值曲线的拟合方法,包括由每个样品的黑矩阵包括的多个沿每个样品的长度方向或宽度方向延伸的遮光条的宽度、亚像素的宽度,得到对比敏感度值;遮光条均具有N种宽度,N≥2;至少部分样品中遮光条的宽度与其他样品中遮光条的宽度不完全相等;得到不同观测距离下样品对应的空间频率值;将同一环境亮度以及对应的观测距离下每个样品暗线的可见或不可见情况标注在以空间频率为横坐标,对比敏感度值为纵坐标的坐标系中;拟合阈值曲线,使标识可见或不可见情况的坐标点分别位于阈值曲线的两侧。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 评估 矩阵 阈值 曲线 拟合 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于评估黑矩阵的阈值曲线的拟合方法,其特征在于,包括:根据多个样品显示面板中每个样品的黑矩阵包括的多个沿第一方向延伸的遮光条的宽度、亚像素的宽度,计算得到每个样品的对比敏感度值;其中,多个所述样品中的沿所述第一方向延伸的所述遮光条均具有N种宽度,N≥2;至少部分所述样品中所述遮光条的宽度,与其他所述样品中所述遮光条的宽度不完全相等;所述第一方向为每个所述样品的长度方向,或者,所述第一方向为每个所述样品的宽度方向;根据多个所述样品以及不同的观测距离,计算得到在不同观测距离下所述样品对应的空间频率值;针对每个所述样品,将在同一环境亮度以及对应的观测距离下,人眼观测所述样品的暗线的可见或不可见情况,标注在以空间频率为横坐标,对比敏感度值为纵坐标的坐标系中;拟合阈值曲线,使用于标识可见情况的坐标点和用于标识不可见情况的坐标点分别位于所述阈值曲线的两侧。
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