[发明专利]一种除偏振片碘分子层的方法在审
| 申请号： | 201910364489.3 | 申请日： | 2019-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN110125563A | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | 曹洪涛;林勇;彭云贵;胡述旭;吕启涛;高云峰 | 申请（专利权）人： | 大族激光科技产业集团股份有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/40 | 分类号： | B23K26/40 |
| 代理公司： | 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) 44312 | 代理人： | 袁文英 |
| 地址： | 518000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种除偏振片碘分子层的方法，其中，该方法包括：将碘性偏振片放置在精密加工平台上，开启皮秒激光设备准备对所述碘性偏振片进行加工；调整所述皮秒激光设备的激光，将激光焦距设置在所述碘性偏振片的表面处；将结构图档导入到所述皮秒激光设备上，对所述皮秒激光设备的加工参数进行设置，所述结构图档中记录了所述碘性偏振片的加工结构形状以及尺寸；将所述皮秒激光设备产生的激光照射到所述碘性偏振片上，根据所述结构图档中的加工结构形状以及尺寸，控制所述激光的加工路径对所述碘性偏振片进行加工。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振片 激光设备 加工结构 碘分子 激光 激光焦距 激光照射 加工参数 加工路径 精密加工 表面处 加工 记录 | ||
【主权项】：
1.一种除偏振片碘分子层的方法，其特征在于，包括：将碘性偏振片放置在精密加工平台上，开启皮秒激光设备准备对所述碘性偏振片进行加工；调整所述皮秒激光设备的激光，将激光焦距设置在所述碘性偏振片的表面处；将结构图档导入到所述皮秒激光设备上，对所述皮秒激光设备的加工参数进行设置，所述结构图档中记录了所述碘性偏振片的加工结构形状以及尺寸；将所述皮秒激光设备产生的激光照射到所述碘性偏振片上，根据所述结构图档中的加工结构形状以及尺寸，控制所述激光的加工路径对所述碘性偏振片进行加工。
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