[发明专利]对金属层镀金以实现背侧连接通路在审

专利信息
申请号: 201910366769.8 申请日: 2019-05-05
公开(公告)号: CN110428937A 公开(公告)日: 2019-11-08
发明(设计)人: Z·A·波科尔诺斯基;R·A·格里利;T·W·泽勒;J·G·里巴尔;J·B·米乔莱茨;J·A·特格特 申请(专利权)人: 哈钦森技术股份有限公司
主分类号: H01B13/00 分类号: H01B13/00;H01B5/14;C23C30/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 蔡洪贵
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 描述了一种背侧连接通路结构以及制造方法。该方法包括在基板的至少一部分上形成金层。该方法还包括在该金层上形成金属层。并且,该方法包括在该基板中形成开口以暴露该金层的至少一部分。
搜索关键词: 金层 侧连接 金属层 基板 通路结构 镀金 开口 暴露 制造
【主权项】:
1.一种制造方法,包括:在基板的至少一部分上形成金层;在所述金层上形成金属层;以及在所述基板中形成开口,以暴露所述金层的至少一部分。
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