[发明专利]一种基于多粒子沉积的低缺陷多腔体镀膜装置

摘要

本发明公开了一种基于多粒子沉积的低缺陷多腔体镀膜装置。包括依次排列的4个真空腔室：第一真空腔室、第二真空腔室、第三真空腔室和第四真空腔室，第一真空腔室用于元件热平衡；第二真空腔室采用离子束溅射镀膜方式对镀膜元件表面镀制第一膜层，第三真空腔室采用离子束辅助电子束蒸发镀膜方式对镀膜元件表面蒸镀第二膜层，第四真空腔室用于对镀膜元件膜层缺陷检测与平坦化处理；四个真空腔室间依次通过三真空管道连通；各真空管道中的元件抓取转移机械手工作以将镀膜元件在相邻两真空腔室间进行传递。本装置可制备出超低缺陷、高抗激光损伤阈值、应力低、附着力强、光学均匀性好的光学薄膜，可应用于超高功率和超高能量激光薄膜制备领域。

主权项

1.一种基于多粒子沉积的低缺陷多腔体镀膜装置，其特征在于，其包括依次排列的4个真空腔室：第一真空腔室、第二真空腔室、第三真空腔室和第四真空腔室，第一真空腔室用于将镀膜元件加热到镀膜温度，并进行热平衡或将镀膜元件从镀膜温度降温到室温；第二真空腔室采用离子束溅射镀膜方式对镀膜元件表面镀制第一膜层，第三真空腔室采用电子束蒸镀方式对镀膜元件表面镀制第二膜层，第四真空腔室用于对膜层进行缺陷检测与平坦化处理；4个真空腔室间，依次通过第一真空管道、第二真空管道和第三真空管道连通，各真空管道用于将相邻两真空腔室进行隔离；各真空管道中分别设置有元件抓取转移机械手，各元件抓取转移机械手工作以将镀膜元件在相邻两真空腔室间进行传递。