[发明专利]膜形成装置及膜形成方法有效
申请号: | 201910371007.7 | 申请日: | 2019-05-06 |
公开(公告)号: | CN111349912B | 公开(公告)日: | 2023-07-14 |
发明(设计)人: | 岩永刚 | 申请(专利权)人: | 富士胶片商业创新有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/44 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 |
地址: | 日本东京*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种膜形成装置及膜形成方法,具备:反应容器,在内部配置有膜形成对象部件,且用于利用供给至内部的成膜性气体的激励分解而将以成膜性气体中所包含的元素为构成要素的膜堆积于膜形成对象部件上,具有:能够激励分解成膜性气体的反应活性区域和作为与反应活性区域连续的区域的反应惰性区域;成膜性气体供给装置,向反应惰性区域供给成膜性气体;激励装置,对成膜性气体进行激励分解;保持装置,具有:保持部件,保持膜形成对象部件;及驱动部,在反应惰性区域与反应活性区域之间驱动保持部件;及排气部件,设置于反应容器内,排出反应容器内的气体,且排出已通过由保持部件保持的状态的膜形成对象部件的内部及侧面的至少一方的反应容器内的气体。 | ||
搜索关键词: | 形成 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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