[发明专利]一种用于调查晶圆背面异常的定位方法有效
申请号: | 201910374869.5 | 申请日: | 2019-05-07 |
公开(公告)号: | CN110190007B | 公开(公告)日: | 2021-04-02 |
发明(设计)人: | 潘志宣 | 申请(专利权)人: | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L21/68 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴广志 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种用于调查晶圆背面异常的定位方法,提供一套集光源、透镜、定位图案等构件于一体而获得集成电路生产中调查晶圆背面异常的定位电子图像;通常使用场合,光源、透镜、定位图案以及晶圆位于同一直线上而易获得满意的背面图像;调整透镜与所述光源的距离,使得定位图案的投影边缘与晶圆的边缘对准;通过照相或图示记录纸记录晶圆背面待测图像中的异常点所在位置。本发明利用电子定位图案直接投影在晶圆待测背面上实现晶圆背面的精准定位。调整位置使图案槽口标记与晶圆槽口对准,图案边缘与晶圆边缘对准获得最后的实际照相效果图,定位精度高,使用方便。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 调查 背面 异常 定位 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于调查晶圆背面异常的定位方法,其特征在于,所述方法至少包括以下步骤:步骤一、提供光源、透镜、定位图案以及晶圆的背面待测图像;步骤二、将所述透镜置于所述光源和所述定位图案之间;将所述晶圆的背面待测图像置于所述定位图案的透光一侧;所述光源、透镜、定位图案以及所述晶圆的背面待测图像的中心位于一条直线上;步骤三、调整所述透镜与所述光源的距离,使得所述定位图案的投影边缘与所述晶圆的背面待测图像边缘对准;所述定位图案中的槽口标记与晶圆背面待测图像槽口标记重合,使图像清晰;步骤四、记录所述晶圆背面待测图像中的晶圆异常点所在定位图案中的位置。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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