[发明专利]图形处理系统和在图形处理系统中处理基元的方法有效
| 申请号： | 201910375001.7 | 申请日： | 2014-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN110264557B | 公开（公告）日： | 2023-07-14 |
| 发明（设计）人： | J·里德肖 | 申请（专利权）人： | 想象技术有限公司 |
| 主分类号： | G06T15/40 | 分类号： | G06T15/40 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 党晓林;师玮 |
| 地址： | 英国赫*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请涉及图形处理系统和在图形处理系统中处理基元的方法。一种图形处理系统，其具有被划分为瓦片的渲染空间。瓦片内的基元被处理以执行隐藏面消除并且对基元应用纹理化。该图形处理系统包括多个深度缓冲器，由此允许处理模块通过访问深度缓冲器之一而对一个瓦片的基元进行处理，同时另一个部分处理的瓦片的基元标识符被存储在深度缓冲器的另一个深度缓冲器中。这允许该图形处理系统具有“多个处理中的瓦片”，这能够提高该图形处理系统的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 处理 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种图形处理单元，所述图形处理单元被配置为使用被细分为瓦片的渲染空间，所述图形处理单元包括：处理模块，所述处理模块被配置为处理针对所述渲染空间的瓦片的基元，所述处理包括执行隐藏面消除，其中所述处理模块被配置为在所述隐藏面消除期间、在给定时间具有处理中的多个瓦片。
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