[发明专利]金属有机化合物化学气相沉积反应装置有效
申请号: | 201910380483.5 | 申请日: | 2019-05-08 |
公开(公告)号: | CN111910177B | 公开(公告)日: | 2021-05-14 |
发明(设计)人: | 蒲健;姚志伟;陈军 | 申请(专利权)人: | 聚灿光电科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/455;C23C16/46 |
代理公司: | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 沈晓敏 |
地址: | 215000 江苏省苏州市工业*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明揭示了一种MOCVD反应装置,包括载盘及位于载盘下方的加热装置,加热装置包括加热丝组件及支撑加热丝组件的支架组件,加热丝组件包括对应载盘的边缘区域设置的外圈加热丝,支架组件包括支撑外圈加热丝的若干外圈支架,外圈支架包括平行设置的两条外圈支撑脚及连接两条外圈支撑脚的外圈支撑部,外圈支撑部远离两条外圈支撑脚的一侧包括呈平面的支撑面,支撑面包括相连的第一支撑面及第二支撑面,第一支撑面对应两条外圈支撑脚的中间区域设置,第二支撑面朝远离外圈加热丝的中心方向凸伸出第一支撑面,且外圈加热丝位于第一支撑面及第二支撑面上。本发明在原有机台整体不动的情况下,简单改变几个部件的设计便可提高产能,实用性高。 | ||
搜索关键词: | 金属 有机化合物 化学 沉积 反应 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的