[发明专利]边缘曝光装置、方法、显示基板、显示装置有效
| 申请号： | 201910384249.X | 申请日： | 2019-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN110308619B | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 李策;张文轩;蒋龙;尤飞;廖飞;张丛雷;徐哲 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;张博 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种边缘曝光装置、方法、显示基板、显示装置，属于显示技术领域。边缘曝光装置，包括：曝光光源，用于提供曝光光线，所述曝光光线为扩散光线；设置在所述曝光光源出光侧的光学调整组件，能够调整所述曝光光线的传播方向。通过本发明的技术方案，能够防止在柔性衬底的边缘出现膜层残留，保证显示装置的产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 边缘 曝光 装置 方法 显示 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种边缘曝光装置，其特征在于，包括：曝光光源，用于提供曝光光线，所述曝光光线为扩散光线；设置在所述曝光光源出光侧的光学调整组件，能够调整所述曝光光线的传播方向。
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