[发明专利]一种电路板的电镀工艺有效

专利信息
申请号: 201910386289.8 申请日: 2019-05-09
公开(公告)号: CN110172727B 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 刘景亮;刘镭 申请(专利权)人: 刘景亮
主分类号: C25D21/14 分类号: C25D21/14;C25D7/00;C25D3/38;C22B7/00;C22B15/00
代理公司: 深圳市深弘广联知识产权代理事务所(普通合伙) 44449 代理人: 向用秀
地址: 518000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种电路板的电镀工艺,涉及电镀领域。该电镀工艺包括以下步骤:提供电路板刻蚀液废液作为反应原料,所述电路板刻蚀液废液经萃取、水洗和反萃后得到硫酸铜溶液,所述硫酸铜溶液与镀铜添加剂混合后得到镀铜液,将电路板置于所述镀铜液中进行电镀;其中,在电镀的过程中,利用铜离子浓度控制系统检测所述镀铜液中的铜离子浓度,根据检测结果调整萃取过程中萃取系统的搅拌速度,使镀铜液中的铜离子浓度满足电路板的镀铜要求。利用该电镀工艺能够解决目前电路板的电镀成本居高不下的问题,降低电路板的电镀成本。
搜索关键词: 一种 电路板 电镀 工艺
【主权项】:
1.一种电路板的电镀工艺,其特征在于,包括以下步骤:提供电路板刻蚀液废液作为反应原料,所述电路板刻蚀液废液经萃取、水洗和反萃后得到硫酸铜溶液,所述硫酸铜溶液与镀铜添加剂混合后得到镀铜液,将电路板置于所述镀铜液中进行电镀;其中,在电镀的过程中,利用铜离子浓度控制系统检测所述镀铜液中的铜离子浓度,根据检测结果调整萃取过程中萃取系统的搅拌速度,使镀铜液中的铜离子浓度满足电路板的镀铜要求。
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