[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 201910389424.4 申请日: 2019-05-10
公开(公告)号: CN111293103A 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 廖俊诚 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: H01L23/538 分类号: H01L23/538
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 聂慧荃;闫华
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开提供一种半导体装置。该半导体装置包括一半导体基底、一导电贯通电极、一绝缘膜、一凸块以及一连接层,其中该连接层包括一可图案化材料,而可该图案化材料包含有多个导电粒子。该可图案化材料包括感光材料。该感光材料为光刻胶或聚亚酰胺。该导电粒子包括铜、镍、金、或银。该连接层可由下列方式予以形成:旋转涂布、化学气相沉积工艺、或是物理气相沉积工艺。该导电贯通电极贯穿该半导体基底。该绝缘膜围绕该导电贯通电极且使该导电贯通电极与该半导体基底电性地绝缘。该凸块设置在该导电贯通电极上。该连接层是设置在该凸块上。
搜索关键词: 半导体 装置
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