[发明专利]内嵌式被动元件结构在审
| 申请号： | 201910389870.5 | 申请日： | 2019-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN110265197A | 公开（公告）日： | 2019-09-20 |
| 发明（设计）人： | 叶宗和 | 申请（专利权）人： | 鼎展电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01C1/01 | 分类号： | H01C1/01;H01C1/14;H01C7/00;H01C13/00;H01F27/28;H01F27/29;H01F38/00;H01G4/005;H01G4/33;H01G4/40 |
| 代理公司： | 广东腾锐律师事务所 44473 | 代理人： | 莫建坤 |
| 地址： | 中国台湾桃园*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种内嵌式被动元件结构，其包括有：一第一导电金属层、一电阻层、一介电层、一支持层、一接着层与一第二导电金属层。特别地，对本发明的内嵌式被动元件结构施予两次显影蚀刻处理之后，即可在该内嵌式被动元件结构上制作出同时包含至少一薄膜电阻元件、至少一薄膜电感元件与至少一薄膜电容元件的一电子线路。根据本发明的设计，所述电阻层为通过溅镀技术所制成的合金、金属或金属化合物电阻膜。溅镀的电阻层具有较佳的镀层致密度与连续性，因此其面电阻的最低值可小于或等于5欧姆/口。同时，利用溅镀技术制作的合金、金属或金属化合物电阻膜，亦能有效减少工业废水的产生。 | ||
| 搜索关键词： | 被动元件 内嵌式 电阻层 溅镀 导电金属层 金属化合物 电阻膜 合金 薄膜电感元件 薄膜电容元件 薄膜电阻元件 金属 电子线路 工业废水 技术制作 蚀刻处理 有效减少 接着层 面电阻 支持层 电层 镀层 显影 | ||
【主权项】：
1.一种内嵌式被动元件结构，其特征在于，包括：第一导电金属层；电阻层，设置在所述第一导电金属层的上侧，所述电阻层由镍、铬、钨、镍金属化合物、铬金属化合物、钨金属化合物、镍基合金、铬基合金或钨基合金制成；介电层，与所述电阻层相连接；支持层，与所述介电层相连接；接着层，与所述支持层相连接，且设置在所述支持层的上侧；第二导电金属层，设置在所述接着层的上侧。
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