[发明专利]阵列基板及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201910390891.9 申请日: 2019-05-10
公开(公告)号: CN110174803A 公开(公告)日: 2019-08-27
发明(设计)人: 叶成亮 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339;G02F1/1362
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂;鞠骁
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种阵列基板及其制作方法。本发明的阵列基板具有显示区及位于显示区外侧的外围区,阵列基板包括设于外围区内的边缘色阻图案及位于边缘色阻图案上方的边缘隔垫物,边缘色阻图案包括块状部及位于块状部外侧的挡墙,从而在显示区色阻图案及边缘色阻图案上方形成用于制作主隔垫物及边缘隔垫物的隔垫物材料层时,隔垫物材料层在边缘色阻图案上方的部分的流平性大大降低,使得最终形成的位于显示区色阻图案上方的主隔垫物与位于边缘色阻图案上方的边缘隔垫物的高度差降低,能够提升液晶显示面板的显示品质。
搜索关键词: 边缘色 图案 隔垫物 阵列基板 显示区 主隔垫物 材料层 块状部 色阻 制作 液晶显示面板 显示品质 高度差 流平性 外围区 挡墙 外围
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板具有显示区(91)及位于显示区(91)外侧的外围区(92);所述阵列基板包括设于外围区(92)内的边缘色阻图案(32)及位于边缘色阻图案(32)上方的边缘隔垫物(42);所述边缘色阻图案(32)包括块状部(321)及位于块状部(321)外侧的挡墙(322)。
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