[发明专利]光阻剥离方法及光阻剥离装置在审
| 申请号： | 201910392055.4 | 申请日： | 2019-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN110187614A | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | 陈梦 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请提供一种光阻剥离方法及光阻剥离装置，通过使光阻剥离后的基板经过至少一盛放第一溶液的清洗子单元处理以去除光阻剥离后的基板上的残留剥离液，以避免残留剥离液对基板上的金属造成腐蚀，改善光阻剥离过程中的金属掏空程度。 | ||
| 搜索关键词： | 光阻 剥离 光阻剥离装置 剥离液 基板 残留 金属 剥离过程 单元处理 对基板 清洗子 去除 盛放 掏空 腐蚀 申请 | ||
【主权项】：
1.一种光阻剥离装置，其特征在于，所述光阻剥离装置包括：光阻剥离单元，所述光阻剥离单元用于盛装剥离液以处理待剥离光阻的基板；第一清洗单元，所述第一清洗单元包括多个清洗子单元，至少一所述清洗子单元用于盛装第一溶液，第一溶液用于与光阻剥离后的所述基板上的残留剥离液发生中和反应；其中，所述待剥离光阻的基板包括基板、形成于所述基板上的图案化的金属层以及覆盖所述图案化的金属层的光阻层。
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